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¿Qué materiales de sustrato puede manejar una máquina de recubrimiento PVD sin comprometer la calidad del recubrimiento o el rendimiento de la máquina?
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¿Cómo gestiona la máquina de recubrimiento al vacío la eliminación de contaminantes o impurezas durante el proceso de recubrimiento?
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¿Cómo afecta la elección del material objetivo en una máquina de recubrimiento al vacío a la adhesión, durabilidad y propiedades de la superficie del recubrimiento?
Jan 26,2026 PVD es la abreviatura de Deposición Física de Vapor (Physical Vapor Deposition). Se refiere a la práctica de utilizar tecnología de descarga de arco de alta corriente y bajo voltaje para vaporizar el material objetivo e ionizar tanto el material evaporado como el gas en condiciones de vacío. Al utilizar la aceleración del campo eléctrico, el material evaporado y sus productos de reacción se depositan sobre la pieza de trabajo.
La tecnología PVD (deposición física de vapor) se divide principalmente en tres tipos: recubrimiento por evaporación al vacío, recubrimiento por pulverización catódica al vacío y recubrimiento iónico al vacío.
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