Recubrimiento de iones de arco DK

Recubrimiento de iones de arco

PVD: deposición física de vapor
Una forma de deposición física de vapor (recubrimiento PVD) es el recubrimiento por arco iónico. La historia del recubrimiento PVD comenzó con la tecnología de arco, que tiene su origen en la soldadura por arco.

Objetivos

El metal a evaporar se coloca como un bloque sólido (objetivo) contra el interior de una cámara de vacío. Se enciende una descarga luminosa que corre hacia el objetivo, dejando una huella. Se evaporan pequeñas manchas de material objetivo de unos pocos µm de diámetro. El movimiento del arco puede ser guiado por imanes.

Recubrimiento por plasma

El material ionizado evaporado se utiliza como recubrimiento de plasma sobre un producto que gira dentro de la cámara de vacío. Los recubrimientos por arco se utilizan como recubrimiento de herramientas y componentes.

Ejemplos de recubrimientos

Ejemplos de recubrimiento por arco son recubrimientos de TiN, AITiN, AICrN, TiSiN, TiCN, CrCN y CrN.

Vista esquemática de un proceso de arco PVD.

Las características de la tecnología de recubrimiento Arc:

Altas tasas de deposición (1~3 μm/h) Alta ionización, lo que resulta en una buena adhesión y recubrimientos densos A medida que se enfría el objetivo, se genera poco calor hacia el sustrato, es posible un recubrimiento uniforme a temperaturas inferiores a 100 ℃. Se pueden usar varias composiciones de metales. se evaporó, dejando el blanco sólido restante sin cambios en su composición. Los cátodos se pueden colocar en cualquier posición (horizontal, vertical, al revés), lo que hace posible un diseño flexible de la máquina.

Las principales desventajas de la tecnología de recubrimiento por arco:

Tipo limitado de materiales objetivo - solo metales (sin óxidos) - que no tienen una temperatura de evaporación demasiado baja. Debido a las altas densidades de corriente, una parte del material objetivo se expulsa en forma de pequeñas gotas de líquido.