Resumen: Para mejorar la adherencia y la suavidad de la película chapada en la superficie del sustrato, as...
Para mejorar la adherencia y la suavidad de la película chapada en la superficie del sustrato, así como la compacidad de la película, antes de colgar el sustrato en la máquina de revestimiento al vacío, se debe realizar un paso de limpieza preliminar para eliminar la Manchas de aceite, manchas, polvo, para garantizar que esté en un estado limpio y luego recubra.
1. Limpieza por calentamiento al vacío
La pieza de trabajo se calienta bajo presión normal o vacío. Promover la evaporación de impurezas volátiles en la superficie para lograr el propósito de limpieza. El efecto de limpieza de este método está relacionado con la presión ambiental de la pieza de trabajo, la duración del tiempo de retención en el vacío, la temperatura de calentamiento, el tipo de contaminantes y el material de la pieza de trabajo. El principio es calentar la pieza de trabajo. Promover la desorción mejorada de moléculas de agua y varias moléculas de hidrocarburos adsorbidas en su superficie. El grado de mejora de la desorción depende de la temperatura. Bajo vacío ultraalto, para obtener superficies atómicamente limpias, la temperatura de calentamiento debe ser superior a 450 grados. El método de limpieza por calentamiento es particularmente efectivo. Pero a veces, este enfoque también puede tener efectos secundarios. Como resultado del calentamiento, puede ocurrir que algunos hidrocarburos se agreguen en aglomerados más gryes y al mismo tiempo se descompongan en residuos de carbono.
2. Limpieza por irradiación ultravioleta
Utiliza radiación UV para descomponer los hidrocarburos en la superficie. Por ejemplo, la exposición al aire durante 15 horas produce una superficie de vidrio limpia. Si las superficies prelimpiadas correctamente se colocan en una fuente UV generadora de ozono. Se puede crear una superficie limpia en minutos (proceso de limpieza). Esto indica que la presencia de ozono aumenta la tasa de limpieza. El mecanismo de limpieza es: bajo la radiación ultravioleta, las moléculas de suciedad se excitan y se disocian, y la generación y existencia de ozono produce oxígeno atómico altamente activo. Las moléculas de suciedad excitadas y los radicales libres generados por la disociación de la suciedad interactúan con el oxígeno atómico. Se forman moléculas más simples y volátiles. Como H2O3, CO2 y N2. La velocidad de reacción aumenta al aumentar la temperatura.
3. Descarga de limpieza
Este método de limpieza es ampliamente utilizado en la limpieza y desgasificación de sistemas de alto y ultra alto vacío. Especialmente utilizado en máquinas de recubrimiento al vacío. Se utiliza un alambre o electrodo caliente como fuente de electrones. La aplicación de una polarización negativa a la superficie a limpiar puede lograr la desorción del gas mediante el bombardeo de iones y la eliminación de ciertos hidrocarburos. El efecto de limpieza depende del material del electrodo, la geometría y su relación con la superficie. Es decir, depende del número de iones y de la energía iónica por unidad de superficie. Por lo tanto, depende de la energía eléctrica disponible. La cámara de vacío se llena con un gas inerte (típicamente gas Ar) a una presión parcial apropiada. La limpieza se puede lograr mediante bombardeo de iones mediante descarga luminiscente a bajo voltaje entre dos electrodos adecuados. en este método. El gas inerte se ioniza y bombardea la pared interior de la cámara de vacío, otras partes estructurales de la cámara de vacío y el sustrato que se va a enchapar, lo que puede hacer que algunos sistemas de vacío estén exentos de horneado a alta temperatura. Se pueden obtener mejores resultados de limpieza para algunos hidrocarburos si se agrega oxígeno al gas cargado. Porque el oxígeno puede oxidar ciertos hidrocarburos para formar gases volátiles que el sistema de vacío elimina fácilmente. Los principales componentes de las impurezas en la superficie de los recipientes de acero inoxidable de alto y ultra alto vacío son el carbono y los hidrocarburos. En general, el carbono que contiene no puede volatilizarse solo. Después de la limpieza química, es necesario introducir gas mixto Ar o Ar O2 para la limpieza por descarga luminiscente, de modo que se eliminen las impurezas de la superficie y los gases adheridos a la superficie debido a la acción química. en la limpieza por descarga luminiscente. Los parámetros importantes son el tipo de voltaje aplicado (CA o CC), la magnitud del voltaje de descarga, la densidad de corriente, el tipo de gas cargado y la presión. La duración del bombardeo. La forma de los electrodos y el material y ubicación de las piezas a limpiar, etc.
4. Lavado de gases
(1) Lavado con nitrógeno
Cuando el nitrógeno se adsorbe en la superficie del material, debido a la pequeña energía de adsorción, el tiempo de retención en la superficie es extremadamente corto. Incluso si se adsorbe en la pared del dispositivo, es fácil de bombear. El uso de esta propiedad del nitrógeno para lavar el sistema de vacío puede reducir en gran medida el tiempo de bombeo del sistema. Por ejemplo, antes de poner la máquina de recubrimiento al vacío en la atmósfera, primero llene la cámara de vacío con nitrógeno seco para lavarla y luego llénela a la atmósfera, el tiempo de bombeo del próximo ciclo de bombeo se puede acortar casi a la mitad, porque el La energía de adsorción del nitrógeno es mucho más pequeña que las moléculas de vapor de agua, después de llenarse con nitrógeno al vacío, las moléculas de nitrógeno son adsorbidas primero por la pared de la cámara de vacío. Dado que el sitio de adsorción es fijo, primero se llena con moléculas de nitrógeno y hay muy pocas moléculas de agua adsorbidas, lo que acorta el tiempo de bombeo. Si el sistema está contaminado por las salpicaduras de aceite de la bomba de difusión, también se puede usar el método de lavado con nitrógeno para limpiar el sistema contaminado. Generalmente, mientras se hornea y se calienta el sistema, el lavado del sistema con gas nitrógeno puede eliminar la contaminación por aceite.
(2) Lavado de gas reactivo
Este método es especialmente adecuado para el lavado interno (eliminación de la contaminación por hidrocarburos) de grandes recubridores de vacío de acero inoxidable ultra alto. Por lo general, para las cámaras de vacío y los componentes de vacío de algunos grandes sistemas de ultra alto vacío, con el fin de obtener superficies atómicamente limpias, los métodos estándar para eliminar la contaminación de la superficie son la limpieza química, el tostado en horno de vacío, la limpieza por descarga luminiscente y los sistemas de vacío de tostado con energía original. y otros métodos. Los métodos de limpieza y desgasificación descritos anteriormente se usan comúnmente antes y durante el montaje de un sistema de vacío. Después de instalar el sistema de vacío (o después de que el sistema esté en funcionamiento), dado que se han reparado los diversos componentes del sistema de vacío, es difícil desgasificar los diversos componentes del sistema de vacío. Una vez que el sistema se contamina (accidentalmente) (principalmente moléculas de gran número atómico, como la contaminación por hidrocarburos), generalmente se desmantelan y reprocesan antes de la instalación. Con el proceso de gas reactivo, se puede realizar la desgasificación en línea in situ. Elimina eficazmente la contaminación de hidrocarburos en la cámara de vacío de acero inoxidable. Su mecanismo de limpieza: En el sistema, el gas oxidante (O2, N0) y el gas reductor (H2, N H3) se cotizan en el sistema para llevar a cabo la limpieza por reacción química en la superficie del metal para eliminar la contaminación, con el fin de obtener metal atómicamente limpio superficies. La tasa de oxidación/reducción de la superficie depende de la contaminación y el material de la superficie metálica. La velocidad de reacción en la superficie se controla ajustando la presión y la temperatura del gas de reacción. Para cada sustrato, los parámetros precisos se determinan experimentalmente. Estos parámetros son diferentes para diferentes orientaciones cristalográficas.
Fundada en 2007 con el nombre anterior Huahong Vacuum Technology, es profesional
Proveedores de China Accesorios de vacío and
Fabricantes de accesorios para aspiradoras , incluidos, entre otros, sistemas de pulverización catódica, unidades de recubrimiento óptico, metalizadores por lotes, sistemas de deposición física de vapor (PVD), equipos de deposición de recubrimiento al vacío duros y resistentes al desgaste, recubridores de sustrato de vidrio, PE, PC, máquinas de rollo a rollo para recubrimiento flexible sustratos Las máquinas se utilizan para una amplia gama de aplicaciones descritas a continuación (pero no limitadas a) Automoción, Decoración, Recubrimientos duros, Recubrimientos para herramientas y corte de metales, y Aplicaciones de recubrimiento de película delgada para industrias y laboratorios, incluidas las universidades. Danko Vacuum Technology Company Ltd está comprometida para ampliar los límites de nuestro mercado proporcionando precios de accesorios de vacío de alta calidad, alto rendimiento y al por mayor. Nuestra empresa se centra en gran medida en el servicio posventa en los mercados nacionales e internacionales, proporcionando planes de procesamiento de piezas precisos y soluciones profesionales para satisfacer las necesidades de los clientes.
