¿Cuál es el objetivo adecuado para la máquina de recubrimiento por pulverización catódica PVD?

El material objetivo pulverizado tiene las características de alta pureza, alta densidad, multicomponente y grano uniforme, que generalmente se compone de un objetivo en blanco y una placa posterior. El objetivo en blanco pertenece a la parte central del material objetivo de pulverización catódica y es el material objetivo bombardeado por un haz de iones de alta velocidad. Después de que los iones impactan el objetivo, los átomos de la superficie del objetivo se pulverizan y se depositan sobre el sustrato para formar una película delgada electrónica. Debido a la baja resistencia del metal de alta pureza, el objetivo de pulverización catódica debe completar el proceso de pulverización catódica en una máquina de alto voltaje y alto vacío. Fabricantes de máquinas de recubrimiento por plasma de China ambiente. El objetivo de pulverización catódica de metal de pureza ultraalta debe unirse con la placa posterior mediante diferentes procesos de soldadura. La placa posterior desempeña principalmente la función de fijar el objetivo de pulverización y debe tener buena conductividad eléctrica y térmica.

Según los diferentes materiales utilizados, los objetivos de pulverización catódica se pueden dividir en objetivos de material único metálico/no metálico, objetivos de aleación y objetivos compuestos. La tecnología de deposición por pulverización catódica tiene buena repetibilidad, el espesor de la película se puede controlar y se puede obtener en una gran área de materiales de sustrato con un espesor uniforme. Las películas preparadas tienen las ventajas de alta pureza, buena compacidad y fuerte adhesión con materiales de sustrato, lo que se ha convertido en una de las principales tecnologías para preparar materiales de películas delgadas.

Los metales de pureza ultraalta y los objetivos de pulverización catódica son componentes importantes de los materiales electrónicos. La cadena industrial de objetivos de pulverización catódica incluye principalmente la purificación de metales, la fabricación de objetivos, el recubrimiento por pulverización catódica y la aplicación de terminales, entre los cuales la fabricación de objetivos y el recubrimiento por pulverización catódica son los eslabones clave de toda la cadena industrial de objetivos de pulverización catódica.

La purificación de metales aguas arriba se realiza principalmente a partir de minerales metálicos clave naturales. La pureza de los metales en general puede alcanzar el 99,8% y la pureza del objetivo de pulverización catódica debe alcanzar el 99,999%.

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