Máquina de recubrimiento al vacío por evaporación y principio físico.-Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Máquina de recubrimiento al vacío por evaporación y principio físico.

la evaporación máquina de recubrimiento al vacío Se compone principalmente de una cámara de recubrimiento al vacío y un sistema de bombeo al vacío. En la cámara de vacío hay fuentes de evaporación (es decir, calentadores de evaporación), sustratos y soportes de sustrato, varillas de electrodos, fuentes de alimentación, crisoles, calentadores de sustrato, sistemas de escape, etc.

El material de recubrimiento se coloca en la fuente de evaporación en la cámara de vacío. En condiciones de alto vacío, la fuente de evaporación se calienta para evaporarla. Cuando el camino libre medio de las moléculas de vapor es mayor que el tamaño lineal de la cámara de vacío, los átomos y moléculas de la película de vapor se evaporarán de la fuente de evaporación. Una vez que la superficie de la fuente se escapa, rara vez choca y se ve obstaculizada por otras moléculas o átomos, y puede alcanzar directamente la superficie del sustrato que se va a recubrir. Debido a la baja temperatura del sustrato, las partículas de vapor del material de la película se condensan sobre él para formar una película.

Para mejorar la adhesión entre las moléculas evaporadas y el sustrato, el sustrato se puede activar mediante calentamiento apropiado o limpieza iónica. El proceso físico del recubrimiento por evaporación al vacío desde la evaporación del material, el transporte hasta la deposición y la formación de película es el siguiente:

1. Utilice varios métodos para convertir otras formas de energía en energía térmica, calentar el material de la película para que se evapore o sublime y se convierta en partículas gaseosas (átomos, moléculas o grupos atómicos) con una cierta energía (0,1 ~ 0,3 eV):

2. Las partículas gaseosas abandonan la superficie del material de la membrana y son transportadas a la superficie del sustrato en línea recta con una velocidad de movimiento sustancial sin colisión;

3. Las partículas gaseosas que alcanzan la superficie del sustrato se condensan, se nuclean y crecen hasta formar una película sólida;

4. Los átomos que forman la película se reorganizan y disponen o se unen químicamente.