La fuente de alimentación de CC refrigerada por agua con estructura compacta puede lograr la mejor calidad de recubrimiento, por lo que puede reemplazar la fuente de alimentación de impulsos en el proceso de pulverización de magnetrón.
Caracteristicas:
• El sistema acorta enormemente el tiempo de reacción y la energía residual del arco se reduce a una velocidad mínima
• Incluso en la alta velocidad de arco del proceso, puede garantizar que la película sea delgada y homogénea.
• Energía remanente de arco extremadamente baja, recuperación rápida
• Aplicaciones avanzadas de sputtering DC
• Para lograr una salida de alta potencia en una estructura compacta.
• Fuente de alimentación refrigerada por agua
Beneficio para el cliente:
• Mejorar significativamente la eficiencia de producción
• Película de alto rendimiento.
• Incluso una fuente de alimentación superior a 40 KW y la integración del sistema también son muy convenientes
• Alta estabilidad del sistema y bajo costo de mantenimiento.
