¿Cuáles son las contramedidas para mejorar las reacciones adversas del recubrimiento al vacío?

Mejorar la estrategia:

Reforzar el tratamiento desengrasante y descontaminante. Si se trata de limpieza ultrasónica, se debe centrar la función desengrasante y garantizar la eficacia de la solución desengrasante; si se limpia a mano, considere limpiar con carbonato de calcio en polvo y luego limpiar.

Fortalecer la cocción antes de emplatar. Si las condiciones lo permiten, es mejor que la temperatura del sustrato pueda alcanzar los 300 ℃ o más, y la temperatura constante debe ser de más de 20 minutos para que el vapor de agua y el vapor de aceite en la superficie del sustrato se volatilicen tanto como sea posible. *Nota: Cuanto mayor sea la temperatura, mayor será la capacidad de adsorción del sustrato, también es fácil absorber el polvo. Por tanto, se debe mejorar la limpieza de la cámara de vacío. De lo contrario, el polvo se adherirá al sustrato antes del recubrimiento, lo que afectará la resistencia de la película, además de otros defectos. (La temperatura de desorción química del vapor de agua sobre el sustrato al vacío es superior a 260 ℃). Sin embargo, no todas las piezas necesitan hornearse a alta temperatura y algunos materiales de nitrato tienen alta temperatura, pero la resistencia de la película no es alta y pueden aparecer manchas. Esto tiene una mayor relación con la tensión y el emparejamiento térmico de los materiales.

Cuyo las condiciones lo permiten, la unidad está equipada con un condensador (PLOYCOLD), que no solo puede aumentar la velocidad de bombeo de vacío de la unidad, sino que también ayuda a eliminar el vapor de agua, el petróleo y el gas del sustrato.

Aumente el grado de vacío de evaporación. Para la máquina de recubrimiento de más de 1 metro, el vacío inicial de la evaporación debe ser superior a 3*10-3Pa. Cuanto más grande sea la máquina de recubrimiento, mayor será el vacío inicial de la evaporación.

Cuando es posible, la unidad está equipada con una fuente de iones, se bombardea antes del recubrimiento, limpia la superficie del sustrato y ayuda al proceso de recubrimiento, lo que favorece la compacidad y firmeza de la película.

Para eliminar la humedad del material de la membrana, coloque el material de la membrana que se utilizará en una placa de Petri en una cámara de vacío para secarlo.

Mantenga seco el entorno de trabajo (incluido el paño de lentes y el área de trabajo con sombrilla) y no introduzca demasiado vapor de agua al limpiar el entorno de trabajo.

Para películas multicapa, al diseñar el sistema de película, es necesario considerar la combinación de la película y el sustrato, y considerar el uso de material de película de Al2O3 tanto como sea posible, que tiene una buena fuerza de adsorción para los sustratos. Para películas metálicas, también se puede considerar la capa de revestimiento de Cr o aleación de Cr. Cr o aleaciones de Cr también tienen mejor poder de adsorción al sustrato.

Utilice líquido pulidor (líquido pulidor) para rehabilitar y eliminar la capa corroída (capa hidrolizada) en la superficie de la lente.

A veces, una reducción adecuada de la tasa de evaporación es útil para aumentar la resistencia de la película y tiene un significado positivo para mejorar la suavidad de la superficie de la película.

Estrés cinematográfico:

El proceso de formación de una película delgada es un proceso de transformación de la forma del material. Es inevitable que haya tensión en la capa de película después de la formación de la película. Para las películas multicapa, existen combinaciones de diferentes materiales de película y las tensiones reflejadas por cada capa de película tienen diferencias, algunas son tensiones de tracción, otras son tensiones de compresión y hay tensiones térmicas de la película y el sustrato.

La existencia de estrés va en detrimento de la resistencia de la película. El más ligero significa que la película no puede soportar la fricción y el más pesado provoca grietas o redes finas en la película.

En el caso de las películas antirreflectantes, la tensión generalmente no es evidente debido al pequeño número de capas. (Sin embargo, algunas lentes de nitrato tienen problemas de estrés incluso si son películas antirreflectantes). Para películas de alto reflejo y películas de filtro con más capas, el estrés es un factor indeseable común al que se debe prestar especial atención.

Mejorar la estrategia:

Hornee después de emplatar. Una vez emplatada la última capa de film, no dejar de hornear inmediatamente, y continuar “templado” durante 10 minutos. Haga que la estructura de la película sea más estable.

El tiempo de enfriamiento se prolonga adecuadamente y el recocido envejece. Reducir el estrés térmico causado por la excesiva diferencia de temperatura entre el interior y el exterior de la cámara de vacío.

Para películas de alta reflexión, películas de filtro, etc., durante el proceso de evaporación, la temperatura del sustrato no debe ser demasiado alta, ya que es probable que las temperaturas altas causen estrés térmico. Y tiene un efecto negativo sobre la estabilidad óptica de materiales de película como el óxido de titanio y el óxido de tantalio.

Los iones ayudan en el proceso de recubrimiento para reducir el estrés.

Elija el sistema de película apropiado para que coincida, la capa de material de película y el sustrato coinciden. (Por ejemplo, la película antirreflectante de cinco capas usa Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2; ZrO2 también puede usar SV-5 (un material de película mixta de ZrO2 TiO2) u otros materiales de película mixtos de alto índice de refracción.

Reducir adecuadamente la tasa de evaporación (Al2O3-2.5A/S; ZrO2-3A/S; tasa de referencia MgF2-6A/S)

El revestimiento de reacción de llenado de oxígeno se realiza en todos los materiales de película de óxido y la tasa de entrada de gas oxígeno se controla de acuerdo con los diferentes materiales de película.

Dureza superficial de la película exterior:

La película antirreflectante generalmente utiliza MgF2 como capa exterior. La sección transversal de la película es una estructura columnar relativamente suelta y la dureza de la superficie no es alta, por lo que es fácil limpiar la carretera.

Mejorar la estrategia:

Cuando el diseño del sistema de película lo permita, agregue una capa de SiO2 de aproximadamente 10 nm a la capa exterior y la suavidad de la superficie del dióxido de silicio será mejor que la del fluoruro de magnesio (pero la resistencia al desgaste y la dureza del dióxido de silicio no son tan buenas como las del fluoruro de magnesio). Después de unos minutos de bombardeo iónico después del recubrimiento, el efecto de firmeza será mejor. (Pero la superficie se volverá más gruesa)

Después de que la lente salga de la cámara de vacío, colóquela en un lugar seco y limpio para evitar una rápida absorción de humedad y reducir la dureza de la superficie.

Otro

Las razones de la mala resistencia de la película incluyen un vacío bajo (que suele ocurrir en máquinas controladas manualmente), una cámara de vacío sucia y un calentamiento insuficiente del sustrato.

Cuando se llena el gas auxiliar, el material de la membrana también se desgasifica, lo que reduce el grado de vacío, reduce el camino libre molecular y la capa de la membrana no es fuerte. Por lo tanto, el llenado del gas auxiliar debe considerar la desgasificación del material de la película, y el material de la película está completamente prefundido y desgasificado por completo antes del recubrimiento, lo que también puede evitar la disminución excesiva del grado de vacío debido a la desgasificación de la película. material durante la evaporación, afectando así la resistencia de la película.

Quita la película

Aunque el estreno de la película aquí también es una especie de película débil, tiene algunas diferencias con el estreno de la película anterior. Las características principales son: liberación puntual, liberación de borde y liberación parcial.

La razón principal es que hay suciedad o contaminantes en la membrana.

Método de mejora: mejorar la limpieza del sustrato.