Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón

Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón

Un sistema de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón utiliza iones de alta energía para depositar una fina capa de material sobre un sustrato. El proceso es rápido y económico y produce un recubrimiento de alta pureza. Los iones de alta energía se liberan de un material fuente y chocan con un gas inerte, como el argón. Estos iones producen un plasma y los átomos del material fuente son expulsados.

La máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón se utiliza comúnmente en la fabricación de joyas. Sus diseños giratorios y estacionarios se pueden ajustar fácilmente para cumplir con una amplia variedad de requisitos de recubrimiento. Esta máquina es adecuada para recubrir cualquier sustrato metálico o no metálico. También se puede utilizar para recubrir plástico, cerámica y cristal. Sus características de alta gama incluyen buena uniformidad y rápidas tasas de deposición.

Un sistema de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón es una herramienta potente y versátil para la producción de gran volumen. Dependiendo de las necesidades y la aplicación, esta técnica puede crear películas delgadas con una amplia gama de propiedades deseadas. Se pueden utilizar diferentes sistemas de energía, materiales y gases para optimizar el proceso. Antes de que comience el proceso, el sustrato se monta en el soporte. Luego, el soporte pasa a través de una cámara de bloqueo de carga para evitar que se mueva.

Este sistema de recubrimiento al vacío es un método de bajo costo que produce recubrimientos de alta calidad con un alto porcentaje de tasa de aprobación. Es ideal para la aviación y la fabricación de productos electrónicos de alta gama. También se puede utilizar para revestimientos de aleaciones y películas metálicas compuestas. Esta es una forma económica y eficaz de recubrir muchos tipos de materiales.

Un sistema de recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón utiliza una fuente de pulverización catódica que aprovecha el confinamiento de electrones. Los imanes atrapan electrones en la superficie del objetivo, lo que da como resultado una mayor densidad de plasma y mayores tasas de deposición. A diferencia de los métodos convencionales de pulverización catódica, esta técnica es segura y no daña el objeto recubierto.

El gas de pulverización utilizado en el proceso es una consideración importante. El tipo de gas a utilizar depende del peso atómico del sustrato. Por ejemplo, los materiales más ligeros se benefician del uso de neón o xenón. Si la cámara contiene oxígeno, el proceso será reactivo.

El proceso de pulverización catódica implica exponer el material objetivo a gases reactivos. Estos gases reaccionan con el material objetivo y crean un compuesto molecular. A continuación, el material se deposita como una fina capa de película. Por ejemplo, cuando un objetivo de silicio se pulveriza reactivamente con oxígeno o nitrógeno, se produce óxido de silicio o nitruro de silicio. Este método se utiliza a menudo para recubrir varios materiales simultáneamente.

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica

Los recubrimientos iónicos y de pulverización catódica de arco múltiple se pueden depositar en una amplia gama de colores. La gama de colores se puede mejorar aún más introduciendo gases reactivos en la cámara durante el proceso de deposición. Los gases reactivos más utilizados para revestimientos decorativos son el nitrógeno, el oxígeno, el argón o el acetileno. Los revestimientos decorativos se producen en una determinada gama de colores, dependiendo de la relación metal-gas del revestimiento y de la estructura del revestimiento. Ambos factores pueden modificarse cambiando los parámetros de deposición.

Antes de la deposición, las piezas se limpian para que la superficie esté libre de polvo o impurezas químicas. Una vez iniciado el proceso de recubrimiento, todos los parámetros relevantes del proceso se monitorean y controlan continuamente mediante un sistema de control automático por computadora.

• Material del sustrato: Vidrio, Metal (acero al carbono, acero inoxidable, latón), Cerámica, Plástico, Joyería.

• Tipo de Estructura: Estructura vertical, Acero Inoxidable #304.

• Película de recubrimiento: Película metálica multifuncional, película compuesta, película conductora transparente, película que aumenta la reflectancia, película protectora electromagnética, película decorativa.

• Color de la película: varios colores, negro pistola, color dorado titanio, color dorado rosa, color acero inoxidable, color púrpura, negro oscuro, azul oscuro y otros colores más.

• Tipo de película: TiN, CrN, ZrN, TiCN, TiCrN, TiNC, TiALN y DLC.

• Consumibles en producción: titanio, cromo, circonio, hierro, aleaciones; objetivo plano, objetivo cilíndrico, objetivo doble, objetivo opuesto.