Terminología común de vacío11

1.ángulo de recubrimiento: el ángulo entre la dirección de las partículas que inciden sobre el sustrato y la normal de la superficie revestida.
2.pulverización al vacío: en el vacío, los iones de gas inerte bombardean átomos (moléculas) o grupos de la superficie objetivo.
3. Sputtering de haz de iones: El objetivo es pulverizado por un haz de iones obtenido de una fuente de iones especial.
4. Limpieza por descarga luminosa: según el principio de descarga luminosa, la superficie del sustrato y la película se limpia mediante bombardeo con descarga de gas. Proveedores de China Máquina de revestimiento al vacío decorativa
5.Deposición física de vapor de PVD: en el vacío, el material de recubrimiento se vaporiza mediante métodos físicos como la evaporación o la pulverización catódica y se deposita sobre el sustrato.
6.Deposición química de vapor CVD: método para depositar nuevos materiales de película sobre sustratos mediante reacciones químicas de vapor de gases que reaccionan con una determinada proporción química en condiciones de activación específicas (generalmente a una determinada temperatura alta).