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corriente continua Pulverización con magnetrón , Sputtering por magnetrón RF, Sputtering por magnetrón pulsado y Sputtering por magnetrón de frecuencia media
La pulverización catódica reactiva consiste en introducir una determinada proporción de gas reactivo en la atmósfera de gas inerte del sistema de pulverización catódica. Normalmente, los principales gases reactivos son el oxígeno y el nitrógeno.
El método de pulverización catódica de CC se utiliza en pulverización catódica y recubrimiento de pulverización catódica reactiva donde el material pulverizado es un material conductor y el equipo de proceso es simple y tiene una alta tasa de pulverización catódica.
En un sistema objetivo de cátodo único, la pulverización catódica con magnetrón de CA de frecuencia media tiene el mismo efecto de liberación de carga y prevención de arco que la pulverización catódica con magnetrón de pulso. La tecnología de pulverización catódica de CA de frecuencia media también se aplica al sistema de pulverización catódica de doble objetivo (Twin2Mag). La pulverización catódica de doble objetivo de CA de frecuencia media sirve para conectar los dos extremos de salida de la fuente de alimentación de CA de frecuencia media a los cátodos respectivos del objetivo doble de pulverización catódica desequilibrado de campo magnético cerrado. Por lo tanto, se obtienen voltajes alternos con fases opuestas respectivamente en los objetivos dobles, y un par de objetivos de pulverización catódica del magnetrón se convierten alternativamente en cátodos y ánodos.
La tecnología de pulverización catódica de doble objetivo mejora en gran medida la estabilidad de la operación de pulverización catódica del magnetrón, lo que puede evitar la acumulación de cargas en la superficie del objetivo envenenada, provocando el problema de la ignición del arco en la superficie del objetivo y la desaparición del ánodo. Sentar las bases para la producción en masa.
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica
Los recubrimientos iónicos y de pulverización catódica de arco múltiple se pueden depositar en una amplia gama de colores. La gama de colores se puede mejorar aún más introduciendo gases reactivos en la cámara durante el proceso de deposición. Los gases reactivos más utilizados para revestimientos decorativos son el nitrógeno, el oxígeno, el argón o el acetileno. Los revestimientos decorativos se producen en una determinada gama de colores, dependiendo de la relación metal-gas del revestimiento y de la estructura del revestimiento. Ambos factores pueden modificarse cambiando los parámetros de deposición.
Antes de la deposición, las piezas se limpian para que la superficie esté libre de polvo o impurezas químicas. Una vez iniciado el proceso de recubrimiento, todos los parámetros relevantes del proceso se monitorean y controlan continuamente mediante un sistema de control automático por computadora.
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